ビーエム機器 株式会社
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細胞融合 遺伝子導入装置 ECM® 2001

▼製品特長

交流波、スクエアパルス、減衰交流波の出力制御が行える細胞融合・遺伝子導入装置 ◆ 周波数1MHzの交流波で細胞を誘導し融合実験に適したパールチェーンを形成 ◆ DCパルスとしてコントロール性及び再現性に優れたスクウエアパルスを採用、効率的な融合実験が可能 ◆ 最終段階でのダメージ回復用の減衰交流波により、細胞の生存率が向上(ポストフュージョン機能) ◆ それぞれ上記出力成分ごとに細かい条件設定が可能 ◆ この一連の出力における繰り返し回数の設定も可能 ◆ 交流波出力中に細胞を観察しながら任意の操作でスクウエアパルス出力操作が可能なマニュアルスタートモード装備 ◆ スクエアパルス出力設定のみを利用し、遺伝子導入実験にも対応可能 ◆ 短絡保護機能付   ■ アプリケーション ・細胞融合 ・核移植 ・動物細胞への遺伝子導入 ・植物プロトプラスト融合 など   構成   ECM 2001 細胞融合・遺伝子導入装置 本体 BTX630B セーフティスタンド BTX660 キュベットラック     カタログNo.   ECM2001   交流波設定     周波数 1MHz(固定)   時間 0~99sec   電圧 7~75V(VRMS)   減衰交流波設定     周波数 1MHz(固定)   時間 0~9sec(1sec刻み)   DCパルス設定   電圧設定 高電圧モード 10~3000V 低電圧モード 10~50V/50~500V パルス幅設定 高電圧モード 1~99μsec(1μsec刻み) 低電圧モード 0.01~0.99msec(0.01msec刻み)/1~99msec(1msec刻み)   パルス数 0~9   パルスインターバル 1sec(固定)   追加繰り返し出力設定   0~9回   DCパルス出力設定   AUTOまたはMANUAL   サイズ(WxDxH)   44x40x28cm   重量   22kg   電源   100V, 50/60Hz   ECM® 2001と合わて使うと便利!! フットスイッチ、リモートコントロールボックス モニタリングシステム 製品詳細

遺伝子導入装置 ECM®830

▼製品特長

スクエアパルスの出力制御を行える遺伝子導入装置   スクウェアパルスの特徴は、出力電圧、パルス幅、パルス数を正確に制御できる点で、対象細胞への電気的なダメージを最小限に抑え、パルス出力後の細胞の生存率を向上させることができ、より幅広い対象細胞への遺伝子導入に対応できると共に、電気的ダメージを受け易い動物細胞でのin vivo実験にも有効です。 ◆ 低電圧側は5Vから1V刻みで設定可能、高電圧側は3000Vまで設定可能、幅広い種類の細胞への導入条件に対応可能 ◆ 出力後各設定条件と共に、実効電圧、実効パルス幅をモニター可能 ◆ 設定操作はシングルロータリーノブにより簡単 ◆ 設定条件は3パターンメモリー可能 ◆ in vivo実験用として各種形状の電極類を用意(オプション) ◆ 短絡保護機能付   ■ アプリケーション ・動物細胞への遺伝子導入 ・動物組織へのin vivo遺伝子導入 ・植物組織(プロトプラスト)への遺伝子導入 ・細菌、酵母への遺伝子導入 など   構成   ECM 830 遺伝子導入装置 本体 BTX630B セーフティスタンド BTX660 キュベットラック     カタログNo.   ECM830   パルス形状   スクエア   DCパルス設定   電圧設定 高電圧モード 505~3000V(5V刻み) 低電圧モード 5~500V(1V刻み) パルス幅設定 高電圧モード 10~594μsec(1μsec刻み) 低電圧モード 10~999μsec(1μmsec刻み)/1~999msec(1msec刻み)/1~10sec(0.1sec刻み)   パルス数 1~99   パルスインターバル 100msec~10sec(固定)   条件メモリー機能   有   モニタリング機能   有(パルス出力後実効電圧、パルス幅表示)   サイズ(WxDxH)   32x32x14cm   重量   6.8kg   電源   100V, 50/60Hz 製品詳細

遺伝子導入装置 ECM® 630

▼製品特長

エクスポネンシャル波形の出力制御を行える遺伝子導入装置   エクスポネンシャル波形は、遺伝子導入分野で広く採用されている波形で、広い電圧値、R値(内部抵抗値)、C値(静電容量)の設定範囲を掛け合わせることにより、非常に多くの導入条件を設定することが可能、同社製 ECM600で培われた数多くのプロトコル条件(文献データ)を再現できます。 ◆ 出力後、各設定条件と共に、実効電圧、実効波形時定数τをモニター可能◆ 設定条件は3パターンメモリー可能◆ 設定操作はシングルロータリーノブにより簡単◆ 短絡保護機能付   ■ アプリケーション ・細菌、酵母への遺伝子導入 ・動物細胞への遺伝子導入 ・植物細胞、プロトプラストへの遺伝子導入 など   構成   ECM 630 遺伝子導入装置 本体 BTX630B セーフティスタンド BTX660 キュベットラック     カタログNo.   ECM630   パルス形状   エクスポネンシャル   DCパルス設定   電圧設定 高電圧モード 50~2500V(5V刻み) 低電圧モード 10~500V(1V刻み) 内部抵抗 高電圧モード 25~1575Ω(250Ω刻み) 低電圧モード 25~1575Ω(25Ω刻み)およびNONE 静電容量 高電圧モード 25μF、50μF 低電圧モード 1μF、25~3275μF(25μF刻み)   条件メモリー機能 有   モニタリング機能 有(パルス出力後実効電圧、実効波形時定数τ表示)   サイズ(WxDxH)   32x32x14cm   重量   6.2kg   電源   100V, 50/60Hz 製品詳細

遺伝子導入装置 ECM® 399

▼製品特長

エクスポネンシャル波形の出力制御を行える低価格な遺伝子導入装置   エクスポネンシャル波形は、遺伝子導入分野で広く採用されている波形で、バクテリアなどの遺伝子導入に多用される5msecパルス幅(時定数)の出力や植物・哺乳動物細胞等の遺伝子導入時の低電圧設定にも対応 ◆ バクテリアなどの遺伝子導入に最適◆ 低価格◆ 出力後、実効電圧、実効波形時定数τをモニターが可能◆ 設定操作は電圧設定のみで、シングルロータリーノブにより簡単◆ キュベットをセットするチャンバーとして非常にコンパクトなPEPスタンドを標準装備、設置に際して場所を取りません。◆ 短絡保護機能付   ■ アプリケーション ・細菌、酵母への遺伝子導入 ・一部動物細胞への遺伝子導入 など   構成   ECM 399 遺伝子導入装置 本体 PEP-BLU PEPキュベットモジュール BTX660 キュベットラック     カタログNo.   ECM399   パルス形状   エクスポネンシャル   DCパルス設定   電圧設定 高電圧モード 10~2500V(10V刻み) 低電圧モード 2~500V(2V刻み) 内部抵抗 高電圧モード 150Ω(固定) 低電圧モード 150Ω(固定) 静電容量 高電圧モード 36μF(固定) 低電圧モード 1050μF(固定)   条件メモリー機能 無   モニタリング機能 有(パルス出力後実効電圧、実効波形時定数τ表示)   サイズ(WxDxH)   24x20x11cm   重量   3.2kg   電源   100V, 50/60Hz 製品詳細

HT System (High Throughput System)

▼製品特長

ハイスループット遺伝子導入・条件検討システム このシステムは、パルス出力装置にあたる遺伝子導入装置と、専用マルチウェルプレート、及びプレートへのパルス出力コントロール用プレートハンドラーの組み合わせからなり、従来キュベット1本ごとに行っていたエレクトロポレーションの操作を、一度に多サンプル同時に行えるハイスループット対応のシステム ■ アプリケーション ・哺乳細胞への遺伝子導入 ・バクテリア、酵母への遺伝子導入 ・siRNAおよびcDNAライブラリースクリーニング など   構成   遺伝子導入装置 ECM®830またはECM®630 プレートハンドラー HT200 HTプレート 25ウェルHTプレート(2mmギャップまたは4mmギャップ) 96ウェルHTプレート(2mmギャップまたは4mmギャップ)     ■ HTプレート 専用プレートとして、5×5の25ウェルHTプレート、8×12の96ウェルHTプレートが有り、それぞれギャップ幅として2mmギャップ、4mmギャップの2種類をご用意   ※HT200は単独ではご使用できません。ハイスループット対応のBTX社遺伝子導入装置との接続が必要となります。   ■ プレートハンドラー HTプレートをセットする専用制御装置遺伝子導入装置側でのパルス出力操作後、プレートハンドラー上でHTプレートの一列ごとに 通電・パルス出力が可能     ■ 遺伝子導入装置 スクエアパルス波形出力のECM®830と、エクスポネンシャル波形出力のECM®630との接続に対応※   ※お手元のECM®830、ECM®630に追加でご検討の場合には、装置シリアル番号ご確認の上、弊社までお問い合わせください。 本体側で改造の必要な場合、対応できない場合があります。   ■ プレートハンドラー   カタログNo.   HT200   電極ピン数   24ピン(96ウェルHTプレート用)または10ピン(25ウェルHTプレート用)選択   パルス出力コントロール   自動的にHTプレート各列電極に順次出力できる自動トラッキング機能有   サイズ(WxDxH)   23x21.5x14cm   重量   4.8kg   電源   100V, 0.5A, 50/60Hz   ■ HTプレート   カタログNo.   HT-P25-2 HT-P25-4 HT-P96-2 HT-P96-4   ウェル数/プレート   25ウェル 96ウェル   ギャップ幅   2mm 4mm 2mm 4mm   サンプル容量(1ウェル当り)   125μl 250μl 125μl 250μl 製品詳細

モニタリングシステム(ECM® 2001, ECM® 830, ECM® 630用)

▼製品特長

このシステムは、ECM® 2001、ECM® 830、ECM® 630などと接続し、出力されたパルスの形状を確認できるモニタリングシステム。 VIP3000プローブ、インターフェースボックス、デジタルオシロスコープ、コミュニケーションモジュールの4つのコンポーネントで構成され、ECMシリーズに接続することにより、逐次その出力波形の情報をモニターでき、細胞融合や遺伝子導入実験の結果と照合し、最適なパルス出力条件の検索、検証に有効です。 コミュニケーションモジュールを経由して得られた出力波形情報をパソコンへ送る事も可能です。 製品詳細

フットスイッチ(ECM® 2001, ECM® 830用), リモートコントロールボックス(ECM® 2001用)※

▼製品特長

細胞融合実験で顕微鏡観察を行いながら(ECM®2001用)、in vivo実験で両手で電極操作を行いながら(ECM®830用)、パルス出力操作が行える装置専用のフットスイッチ。 *お手元の装置に追加でご検討の場合には装置シリアル番号ご確認の上、弊社までお問い合わせ願います。   本体側に改造の必要な場合があります。 ※当ボックスは2006年以降出荷分のECM®2001専用になります。 製品詳細

セーフティスタンド(ECM® 2001, ECM® 830, ECM® 630用)

▼製品特長

カバー付き、安全で取扱容易なディスポキュベット用チャンバー ・同時に2個までのキュベットを使用可能 ・電極の間隔を調整可能 ・ディスポキュベット以外の特殊な形状のチャンバー(フラットパックチャンバー etc.)でも使用可能 ・ECM® 2001、ECM® 830、ECM® 630の標準構成品 製品詳細

BTX® ディスポキュベット電極

▼製品特長

◆ ECMシリーズ(BTX®)の遺伝子導入装置に電極として使用 ◆ アルミニウム製電極を内蔵したディスポーザブル式キュベット電極 ◆ キュベット内電極の表面を滑らかになる様製造されており、導入効率に大きく貢献 ◆ 電極ギャップとして、1mm、2mm、4mmの3種類 ◆ 各キュベットは、γ線滅菌済み、個包装 ◆ キュベットからサンプルを回収するピペット(滅菌済)が1個ずつに添付 ◆ 3種類のギャップの違いに応じてキュベットキャップを3色に分けており、キュベットのとり間違えを防止 製品詳細

BMディスポキュベット電極 BTX®

▼製品特長

※こちらの製品は在庫がなくなり次第、販売中止となります。 BMオリジナルキュベットについてはこちらをご覧下さい。 製品詳細

BMディスポキュベット電極 バイオラット用

▼製品特長

◆ バイオラット社およびエッペンドルフ社の遺伝子導入装置に電極として使用可能 ◆ アルミニウム製電極を内蔵したディスポーザブル式キュベット電極 ◆ キュベット内電極の表面が滑らかになるよう製造されており、導入効率に大きく貢献◆ 電極ギャップとして、1mm、2mm、4mmの3種類 ◆ 各キュベットは、ガンマー線滅菌済み、個包装 ◆ キュベットからサンプルを回収するピペット(滅菌済)が個数分附属 ◆ 3種類のギャップの違いに応じてキュベットキャップを3色に分けており、 キュベットのとり間違えを防止   BMオリジナルキュベットは、高品質ポリカーボネートを使用しており、エレクトロポレーションによるキュベットへのダメージ(クラック)を極力防げます。また、キュベット底部がシャープなV字型となっているため、キュベット内の試料を残さずに回収できます(ギャップ 1mmおよび2mmタイプのみ) 製品詳細

フラットパック電極(Flatpack Chambers)

▼製品特長

◆ ステンレス製電極2枚によるサンドイッチ構造の特殊なチャンバー◆ BTX485は、ギャップ幅1.83mmでかつ最大1.5mlのサンプル容量に対応可能。   キュベット使用時よりも多い容量を扱えます。◆ BTX486は、ギャップ幅0.56mmと狭く、キュベット使用時よりも強い電場(V/cm)が得られます。◆ 使用に際しては、セーフティースタンド(BTX630B)を使用◆ 各電極は、γ線滅菌済み、個装梱包 製品詳細

ペトリディッシュ用電極(Petri PulserTM

▼製品特長

◆ 6wellプレート又は35mmディッシュに合った形状の電極◆ 電極部はゴールド仕様、13枚の平行電極板から成り、ギャップ幅は2mm◆ サンプル容量は、0.5~3.0mlでキュベット使用時よりも多い検体を扱えます。◆ 遺伝子導入装置への接続ケーブルは、電極に付属◆ 使用電圧範囲:0~300V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~35msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存) 製品詳細

ペトリディッシュ用電極(Petri Dish Electrode)

▼製品特長

◆ 100mmディッシュに使用可能な専用電極◆ 電極部はステンレス製、ギャップ幅は2mmの平行電極板◆ 大容量の浮遊細胞への遺伝子導入などに有用◆ 遺伝子導入装置への接続ケーブルは、電極に付属◆ 使用電圧範囲:0~2000V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~40msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存) 製品詳細

ピンセット型電極(Tweezertrodes)

▼製品特長

◆ 全長約12cmのピンセットをベースに先端部分に円形状の電極を取り付けたピンセット型電極◆ 電極部の素材がステンレス製で2種類(径7mm・10mm)、プラチナ製で4種類(径1mm・3mm・5mm・7mm)の6種類をご用意◆ 電極部間のギャップは1mmから2cmの範囲で調整が可能◆ 遺伝子導入装置との接続用に専用のケーブルをご用意◆ 使用電圧範囲:0~200V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~200msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存) 製品詳細

2ニードル固定型電極(2-NEEDLE ARRAYTM)

▼製品特長

◆ ディスポ式の2本のステンレス製ニードルが固定された一体型の電極部分と、デルリン製のハンドル部分から構成された電極◆ 2種類の先端電極間ギャップ(10mm、5mm)◆ 遺伝子導入装置への接続用ケーブルは、各ハンドルに付属◆ 使用電圧範囲:0~500V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~99msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存) 製品詳細

ノギス型電極(CALIPER ELECTRODES)

▼製品特長

◆ ノギスの形状をした電極で、ノギスの操作そのままで電極間隔を任意にセット可能◆ 電極部は、ノギス先端に装備されており、銅製(1×1cm)とステンレス製 (1.5×1.5cm又は2×2cm)の2種類◆ 遺伝子導入装置への接続ケーブルは、各電極に付属◆ 使用電圧範囲:0~500V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~99msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存) 製品詳細

ニードル型電極(GENETRODESTM

▼製品特長

◆ 先端部分がゴールド仕様、0.5mmφのニードル状の電極◆ 先端電極部の長さ、形状(ストレート型、L型)により5種類をご用意◆ 専用の固定用具を使用することにより、対象組織に応じて電極間ギャップを1mmから10mmの間で1mmおきに調整可能◆ 遺伝子導入装置との接続には、フック端子付のケーブルを経由して接続◆ 使用電圧範囲:0~200V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~99msec◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存)     カタログNo.   BTX508 BTX510 BTX512 BTX514 BTX516   製品名   GENETRODES 5mm GENETRODES 10mm GENETRODES 5mm L型 GENETRODES 3mm L型 GENETRODES 1mm L型   電極材質   ゴールド   電極部径   0.5mm   電極部長さ 5mm 10mm 5mm 3mm 1mm   電極部形状   ストレート L型   シャフト部径   0.8mm 製品詳細

ヘラ型電極(GENEPADDLESTM

▼製品特長

◆ 先端部分がゴールド表面加工(厚さ0.04mm)したヘラ型(長方形)の電極◆ 先端電極部ヘラ部分の大きさ(3×5、5×7mm)により2種類をご用意◆ 専用の固定用具を使用することにより、対象組織に応じて電極間ギャップを1mmから10mmの間で1mmおきに調整可能◆ 遺伝子導入装置との接続には、フック型端子付のケーブルを経由して接続◆ 使用電圧範囲:0~200V DC◆ 使用パルス幅:1μsec~99msec     カタログNo.   BTX542 BTX543   製品名   GENEPADDLES 3x5mm GENEPADDLES 5x7mm   電極部表面材質(厚み)   ゴールド(0.04mm)   ヘラ部大きさ 3x5mm 5x7mm   電極部形状   長方形   電極部厚さ   1mm 製品詳細

ゲル(Electrode Gel)

▼製品特長

IN VIVOでの遺伝子導入の際、電極をあてる被検体表面のダメージをやわらげる為のゲルです。 製品詳細

マイクロスライド(MS)型チャンバー(ECM®2001用)

▼製品特長

◆ マイクロスライド上に電極がマウントされたチャンバー◆ 細胞融合などの実験の際に、電極間の細胞の状態を顕微鏡で観察しながら装置の操作が可能◆ マウントされた電極の形状(ワイヤー状、ブロック状)、材質(ステンレス、ゴールド)、ギャップ幅により数種類の製品をご用意◆ 装置との接続には、フック型端子付、角型端子付のアダプターを経由して接続◆ BTX45Xシリーズのチャンバーには専用シャーレが付属◆ 使用電圧範囲:0~500V DC ◆ 使用パルス幅:1μsec~99msec ◆ 使用パルス数:1~99(設定電圧値に依存)     カタログNo.   BTX450 BTX450-1 BTX453 BTX453-10 BTX450-05W BTX450-10W BTX450-05WG BTX450-10WG   電極材質   ステンレス ゴールド   ギャップ 0.5mm 1.0mm 3.2mm 10mm 0.5mm 1.0mm 0.5mm 1.0mm   容量 20μl 40μl 700μl 2.2ml 20μl 40μl 20μl 40μl   オートクレーブ滅菌   不可   顕微鏡観察   可 製品詳細

ディスポーザブル エレクトロポーレーション チャンバー(CELL PORATOR® 用)

▼製品特長

◆ Biometra社遺伝子導入装置CELL PORATOR®専用のディスポチャンバー◆ アルミニウム製電極を内蔵◆ 2種類の電極ギャップ:0.4cm、0.15cm◆ CELL PORATOR®での使用により、Standardタイプで最大1KV/cm、Microタイプで最大2.66KV/cmの電場を得ることが可能◆ 各チャンバーはγ線滅菌済み、個装梱包※この商品はBTX社製品には使用できません。 製品詳細

細胞融合装置 Hybrimune™

▼製品特長

多様な交流波・スクエアパルス出力制御、大容量チャンバー対応細胞融合装置   ◆ 至適化された波形・チャンバーバッファー ◆ 交流波の周波数の設定が可能 ◆ Windowsベースのソフトウェア(標準付属)を使用したプログラミングと設定保存が可能 ◆ 9mlの大容量チャンバーの使用で1回の操作で最大1.8x106個の細胞を処理 ◆ サンプル中の抵抗値を随時測定しPC画面に表示 ◆ 交流波パルスを調整することで細胞の整列の速度を遅くし、細胞間の圧力を増加させることができ、細胞融合の効率が向上 ■ アプリケーション ・抗体産生ハイブリドーマの作製 ・細胞間の核移植 ・免疫治療用ハイブリッドの作製 ・遺伝子導入(mRNA, siRNA, plasmidなど)   構成 Hybrimune™細胞融合装置 Hybrimune™ソフトウェア(47-0301) 細胞融合用チャンバー     ●Optimizationチャンバー 2ml(47-0030)     ●Productionチャンバー 9ml(47-0001) BTXpress Cytofusion Medium C(47-0001) マニュアル     ハイブリドーマ作製~PEG法に比べ10倍以上の効率~ Hybrimune™システムはモノクローナル抗体作製における第1段階であるハイブリドーマ作製を迅速かつ効率的に行えるよう設計されています。 エレクトロフュージョン法は細胞の配列および融合を1回の操作で大量サンプルを最大効率で行うことが可能。 百日咳毒素をアジュバンドとして免疫を施したヒト抗体産生トランスジェニックマウスから回収した脾細胞をSP2/0マウスミエローマ細胞と細胞融合させた場合、Hybrimune™を使用したエレクトロフュージョン法ではPEGを用いた標準法に比べ、10倍以上の抗原特異的クローンが得られました(下表)。   抗原特異的クローン Hybrimune™ PEG   1 20 0   2 10 0   3 400 23   4 151 21   平均 154 11 データ提供:M. Coccia, PhD, Platform Development Group, Medarex Inc., Milpitas, CA     専用チャンバーで簡便にスケールアップ 本システム付属のチャンバーはOptimizationチャンバーで設定した条件を変更することなくProductionチャンバーへスケールアップできます。 Optimizationチャンバーの底面は透過式になっており、細胞融合操作中の細胞の状態を顕微鏡で観察することも可能。 また、いずれのチャンバーも洗浄・滅菌して再利用できます。     Optimizationチャンバー Productionチャンバー   サンプル容量 <2ml <9ml   外側内径 45.72mm   内側外径 38.10mm   電極ギャップ幅 3.81mm   ウェル高 5mm 18mm   外寸(cm) 13.5x7.7x2.2 11x10x5     カタログNo.   BTX47-0300   交流波設定   波形 正弦波(コンスタント、リニア、ノンリニア) 周波数 0.2~2MHz(0.2MHz刻み) 時間 0~20sec(1sec刻み) 電圧 5~75Vpk(5V刻み)   直流波設定 電圧 100~1000V(5V刻み) パルス幅 20~1000μs(10μs刻み) パルス数 0~10 パルス間隔 0.125~10sec(0.001sec刻み)   サイズ(WxDxH)   30.5x40.6x16.5cm   重量   11.3kg ※別途コントロール用PCが必要です。 ※ライセンス契約について:本システムの使用にはライセンス契約が必要となります。   詳細は弊社担当者btx@bmbio.co.jpまでお問い合わせください。 製品詳細

大容量遺伝子導入装置 AgilePulseMAX™

▼製品特長

専用バッファーと大容量用チャンバーの採用による大容量サンプル対応遺伝子導入装置   ◆ キュベットでのプロトコールでそのままスケールアップ(2ml~5ml)が可能 ◆ CytoporationMediumの使用により導入効率の向上が可能 ◆ タッチスクリーン操作による、使い易いユーザーインターフェース ◆ 2種類のパルスを使用して高い生存率を維持しつつ、高い導入効率を実現 ■ アプリケーション ・遺伝子導入(DNA, mRNA, siRNA, plasmidなど) ・ドラッグデリバリー ・癌免疫療法研究 ・複製欠損型ウイルスの大量産生   構成 AgilePulseMAX™遺伝子導入装置 大容量チャンバーキット(BTX47-0010)キュベット用セーフティースタンド(BTX47-0203) CytoporationMedium T(BTX47-0002) マニュアル     K562細胞へのmRNA導入におけるスケールアップの影響 K562細胞(NK細胞障害性アッセイに利用される単球系細胞)にGFP陽性mRNAをキュベットスケール(0.5ml)およびAgilePulseMAX™による大量スケール(5ml、15ml)により導入した結果、いずれの場合も同程度の導入効率が得られました。 方法:2x107/ml濃度の細胞浮遊液をCytoporationMediumで作製した。GFP mRNAを終濃度40μg/mlになるように細胞浮遊液に添加した。 小スケール(0.5ml)導入には標準的な4mmギャップのキュベットを使用し、大スケール(5ml, 15ml)導入には4mmギャップの大容量チャンバーを使用した。 導入はすべて同じ条件で行い、導入24時間後に導入細胞の頻度をフローサイトメトリーで確認した。     大容量チャンバーキット 大容量チャンバーの使用により2ml~5mlのサンプルに対してエレクトロポレーションすることが可能です。 チャンバーには2か所のルアーコネクターが装備されており、下部のルアーコネクターはサンプルの出し入れに、上部のルアーコネクターはエレクトロポレーションの際のエアベントとして使用します。サンプルを充填したチャンバーをベースユニットに装着し、エレクトロポレーションを実施。エレクトロポレーション条件はキュベットにおける条件を変更せずに利用可能です。 チャンバーは規程の洗浄を実施することで再利用できます。     カタログNo.   BTX47-0200   電圧設定   50~1200V   パルス幅 50μs~10ms   パルス間隔 0.200~1000ms(5kHz~1Hz)   インターフェース タッチスクリーン、フットスイッチ(オプション)   データ出力 USBフラッシュメモリー   サイズ(WxDxH)   32x40x20cm   重量   11.3kg 製品詳細

in vivo遺伝子導入装置 AgilePulse™ in vivoシステム

▼製品特長

マルチパターンスクエアパルス出力制御を行えるin vivo専用遺伝子導入装置   ◆ タッチスクリーン操作による使い易いユーザーインターフェース ◆ 2種類のパルスを使い高い生存率と高い導入効率を実現 ◆ パラレルニードルアレイ電極による均一で信頼性の高い遺伝子導入 ◆ 広範な組織に1回の操作で導入が可能 ◆ 小型のニードルアレイ電極は容易に皮膚を貫通するので、高い効率で導入が可能 ◆ ニードルアレイ電極には安全カバーおよび手になじみやすいグリップがついているので安全かつ容易に操作が可能 ◆ 専用交換コネクター(別売)により従来のBTX社各種のin vivo電極の仕様も可能   ■ アプリケーション   ・皮膚内遺伝子導入 ・ワクチン研究 ・筋肉内遺伝子導入 ・遺伝子治療研究 ・腫瘍内遺伝子導入 ・化学療法研究 など     構成 AgilePulseMAX™in vivo遺伝子導入装置 パラレルニードルアレイ電極(2種より選択)     ・4x2アレイ電極4mmギャップ(BTX47-0040)     ・6x2アレイ電極4mmギャップ(BTX47-0050) 電極コネクターケーブル マニュアル     エレクトロポレーション導入による免疫反応の亢進 AgilePulse™in vivo遺伝子導入システムを用いたエレクトロポレーション法によりプラスミドの経皮移行を行った場合、皮内接種もしくは筋肉内接種に 比べPSAの発現が100倍から1000倍に増加し、PSA特異的CD8陽性細胞の免疫反応が亢進します(下図)。 方法:10mg/μlのpVax-PSAをC57BI/6マウスに皮内免疫し、エレクトロポレーションを実施した群、実施しなかった群および筋肉内接種のみを実施した群を比較した。 11,13,15日後採血し、エフェクター細胞を100nMのPSA由来ペプチドpsa65-73およびコントロールペプチドGP33で4時間刺激した。活性化CD8陽性細胞をIFN-γの細胞内染色によりフローサイトメトリーにて定量した。     パラレルニードルアレイ電極による効率的かつ均一な遺伝子導入 ◆ 均一で信頼性の高い電場 ◆ 組織への傷害は最小限 ◆ 医療グレードプラスティックとサージカルスケールを使用 ◆ 高い安全性 ◆ 各種電極本数、長さ ◆ 高い耐久性(500パルス使用可能)     カタログ No.   BTX47-0400(皮膚) BTX47-0500(筋肉)   電圧設定    50~1000V   パルス幅 50μs~1ms(50~1000V)、50μs~10ms(50~300V)   パルス間隔 0.200~1000ms(5kHz~1Hz)   インターフェース タッチスクリーン、フットスイッチ(オプション)   ソフトウェア ID IM   データ出力 USBフラッシュメモリー   サイズ (WxDxH)   32x40x20cm   重量    11.3kg ※ライセンス契約について:本システムを研究目的以外に使用する場合にはライセンス契約が必要となります。   詳細は弊社担当者btx@bmbio.co.jpまでお問い合わせください。   ★各種パラレルニードルアレイ電極については こちらをご覧下さい。 製品詳細

BTX® パラレルニードルアレイ電極

▼製品特長

各種パラレルニードルアレイ電極      皮膚用 筋肉用  カタログNo.   BTX47-0040 BTX47-0043 BTX47-0045 BTX47-0050 BTX47-0060 BTX47-0070 BTX47-0080 BTX47-0086  材質 ステンレス ステンレス  ニードル形状 ファイン ファイン トロカール  ニードル間隔 1.5mm 1.5mm  ギャップ幅 4mm 6mm 6mm  ニードル数 (一列) 4本 3本 4本 6本 6本  ニードル径 0.3mm 0.3mm 0.7mm  ニードル長 2mm 3mm 5mm 2mm 2mm 10mm 25mm 16mm 製品詳細

カスタムオーダー:電極

▼製品特長

様々な形状の電極作製にもご相談に応じます。 別途、こちらsales@bmbio.co.jpまでお問い合わせください。 製品詳細

Twin-Wave エレクトロポレーター Gemini(ジェミナイ)

▼製品特長

     BTX社の技術と実績の粋を結集した最新鋭機     ◆ 矩形波と減衰波の両方を出力可能      1台でバクテリアから動物細胞まであらゆる細胞に対応可能 ◆ ・初心者にも使い易いインターフェース     ・すぐに使える多彩なプリセットプロトコール      ・新しいプリセットプロトコールは随時BTX社から随時供給      ・プリセットプロトコールの変更・保存が可能      ・もちろん、ご希望のパラメーターを設定することも可能 ◆ 各種in vivo電極に対応(X2のみ) ◆ High Throughput(HT)システムに対応(X2のみ)     アプリケーション   Gemini X2 Gemini SC2   in vitro (cuvette) ● ●   Eukaryotic Cells ● ●   Prokaryotic Cells ● ●   in vivo (Specialty Electrodes) ●     Ex Plant/Tissue Slice(Petri Dish Electrodes) ●     In Ovo(Genetrodes) ●     Adherent Cell(Petrii Pulser Electrodes) ●     96 well(HT Plate Handler/96 well Plates) ●     構成 Gemini X2 Gemini SC2   ・BTX Gemini X2遺伝子導入装置   ・キュベット  (BTX610、BTX620、BTX640各10個ずつ)  ・セーフティドーム2  ・キュベットラック   ・マニュアル   ・BTX Gemini SC2遺伝子導入装置   ・キュベット  (BTX610、BTX620、BTX640各10個ずつ)  ・セーフティドーム1  ・キュベットラック   ・マニュアル       カタログNo.   BTX45-2007 BTX45-2002   電圧 5~500V(LV)/505~3000V(HV) 10~500V(LV)/510~3000V(HV)   パルス幅 0.01~999ms(LV)/0.05~5ms(HV) 50~100ms(LV)/0.05~5ms(HV)   連続パルス出力(矩形波) 1~10(LV)/1~3(HV) 1~10(LV)/1~2(HV)   パルス間隔 0.1~10sec 0.1~10sec   インターフェース タッチスクリーン   データ出力 USB/PC none   サイズ(WxDxH)   32x28x20cm   重量   6.8kg   ハイスループット遺伝子導入・条件検討システム(High Throughtput System)についての詳細はこちらをご覧ください。   スクエアパルスの出力制御を行える遺伝子導入装置:ECM830についての詳細はこちらをご覧ください。 製品詳細